问答题
简述PECVD薄膜沉积的原理。
薄膜的沉积原理包括三个基本的过程：1）等离子体反应，是指等离子体通过与具有能量的电子、离子或者基团等粒子碰撞......
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问答题 简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。
问答题 简述阵列工艺的基本工艺流程。
问答题 试根据5次光刻的工艺流程绘制等效电路。
