单项选择题
介质隔离是以绝缘性能良好的电介质作为“隔离墙”来实现电路中各元器件间彼此电绝缘的一种隔离方法。常用的电介质是（）层。
A.多晶硅 B.氮化硅 C.二氧化硅
单项选择题 二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。
单项选择题 Ⅰ号液是（）过氧化氢清洗液.
单项选择题 在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）
