判断题 ICP-MS中截取锥应经常清洗，否则重金属基体沉积在其表面会再蒸发电离形成记忆效应。

判断题 经常清洗ICP-MS中截取锥可使记忆效应和多原子离子干扰降低。

判断题 ICP-MS中的离子聚焦系统（离子光学透镜/离子光学系统）位于截取锥和质谱分离装置之间，它决定了离子进入质量分析器的数量和仪器的背景噪声的水平。