单项选择题 若采用无暗室荧光磁粉探伤工艺，应无阳光直射到观察区域，且观察区域白光照度应≤（）

单项选择题 观察磁痕：缺陷磁痕有疑问时，应抹除磁痕，退磁后重新磁化，再次进行确认。当缺陷磁痕再次显示，且（）与第一次显示的磁痕基本相同时，方可判定为缺陷磁痕。

单项选择题 系统灵敏度校验（b）粘贴试片部位应（），露出基本金属面并保持干燥。