问答题
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
正性光刻把与掩膜版上相同的图形复制到硅片上，负性光刻把与掩膜版上图形相反的图形复制到硅片表面，这两种基本工艺的主要区别在......
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问答题 描述化学机械平坦化工艺。
问答题 例举双大马士革金属化过程的10个步骤。
问答题 描述RF溅射系统。
