问答题
设n型硅单晶衬底是掺锑的,锑的电离能为0.039eV,300K时的EF位于导带下面0.026eV处,计算锑的浓度和导带中电子浓度。
问答题 试计算掺磷的硅、锗在室温下开始发生弱简并时的杂质浓度为多少?
问答题 求室温下掺锑的n型硅,使EF=(EC+ED)/2时锑的浓度。已知锑的电离能为0.039eV。
问答题 掺磷的n型硅,已知磷的电离能为0.044eV,求室温下杂质一半电离时费米能级的位置和浓度。