问答题
简述PVD方法的特点、原理及其一般流程。
特点1膜层与工件表面的结合力强，更加持久和耐磨.2离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件。......
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问答题 简述CVD方法的特点、原理及其一般流程。
问答题 什么是离子镀膜？其一般流程及工作原理是什么？
问答题 什么是共沉淀？均匀沉淀？各具有哪些特点？
