相关考题
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多项选择题
根据采用的蚀刻剂不同，蚀刻可分为（）
A.负性光刻
B.干法蚀刻
C.湿法蚀刻
D.正性光刻 -
判断题
光刻技术的原理和印刷的照相制版相似，即在硅基材料上涂覆光刻胶，接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模，对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后，在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形，再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。 -
多项选择题
根据曝光时所用的光源不同，光刻可分为（）
A.X射线光刻法
B.光学光刻法
C.离子束光刻法
D.电子束光刻法
