问答题
简答题
试分析背沟道刻蚀型的5次光刻中过孔的工艺难点。
【参考答案】
1）刻蚀时间不能太长。在TFT漏极上过孔，需要刻蚀钝化层P-SiNx约为2500Å，能......
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