相关考题
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填空题
在中国、美国和日本受理专利申请的机构分别为（）。 -
多项选择题
关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。
A.该布图设计必须投入商业实施
B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C.布图设计应具有独创性
D.受保护的布图设计必须办理登记手续 -
填空题
《中华人民共和国著作权法》于（）年9月7日通过、（）年10月27日修订。
