判断题
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）
正确
判断题 半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（）
判断题 离子源是产生离子的装置。（）
判断题 液相外延的原理是饱和溶液随着温度的降低产生过饱和结晶。（）
