问答题
简述干法刻蚀的物理作用和化学作用。
物理作用的刻蚀类似于溅射成膜的原理，利用惰性气体的辉光放电产生带正电的离子，在电场作用下加速吸引到下电极上面的基板上，轰......
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问答题 简述PE和RIE设备的不同点。
问答题 简述PECVD设备的特点。
问答题 简述PECVD薄膜沉积的原理。
