欢迎来到求知题库网
求知题库官网
登录
注册
首页
计算机java工程师信产部认证考试
计算机网络设备调试员
计算机计算机软件水平考试
计算机通信工程师
计算机计算机辅助设计绘图员
全部科目
>
通信电子计算机技能考试
>
半导体芯片制造工
>
半导体芯片制造中级工
搜题找答案
填空题
光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。
【参考答案】
前烘；显影；去胶
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
填空题
腐蚀V形槽一般采用（）的湿法化学腐蚀方法。
填空题
用肉眼或显微镜可观察二氧化硅的以下质量：颜色（）、结构（）；表面无（）、无（）、不发花；表面无裂纹、（）。
填空题
化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。
微信扫一扫,加企业群免费搜题
关注
顶部
微信扫一扫,加企业群免费搜题
