单项选择题
对三氯氢硅中痕量杂质的分析采用蒸发法使用微量高纯水和SiHCL3作用产生少量()水解物,对痕量杂质元素有吸附作用。
A.HCL
B.SiH
C.SiO2
D.Si
点击查看答案&解析
相关考题
-
单项选择题
当RO系统暂停使用一周以上时,系统应以()浸泡,防止细菌在膜表面繁殖。
A.5%盐酸
B.4%氢氧化钠
C.1.0%浓度的亚硫酸氢纳
D.1%富尔马林溶液 -
单项选择题
超纯水制水处理系统再生部分选择()水泵。
A.高压
B.低压
C.耐酸碱的ABS水泵
D.未知 -
多项选择题
X射线检测主要构成部分是()
A.吸盘
B.X射线管
C.盖革计数管和计数时率计
