多项选择题
三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定主要试剂表述错误的有（）
A.盐酸优级纯再经石墨熏蒸器提纯两次
B.铍内标KCL载体混合溶液每毫升含铍0.1
C.封闭剂1%聚苯乙烯乙酸乙酯溶液
D.氢氟酸优级纯再经一次提纯，采用自制塑料蒸馏器，置于70℃左右的水浴中提纯，弃去前后馏分各10%
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多项选择题
气相色谱法测定H2的组分时职业健康安全运行控制正确的是（）
A.存在环境因素：潜在的氢气泄漏引起的燃和爆炸
B.下班时将窗全部关闭
C.高压气瓶应该个开放置
D.在进入有H2的实验室时，应先通风 -
单项选择题
质谱的定量分析是在质谱图上，谱线的峰值所对应的离子流强度即谱线的黑度代表了（）从而进行杂质分析。
A.离子的运动
B.离子的质量
C.离子的温度
D.离子的浓度 -
单项选择题
全自动软化系统逆洗时进口水压维持在（）bar左右，以利冲洗。
A.1.5-2
B.0-1
C.1-1.5
D.0-1.5
