问答题
例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
第一步：气相成底膜处理，其目的是增强硅片和光刻胶之间的粘附性。第二步：旋转涂胶，将硅片被固定在载片台上，一定数......
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问答题 解释什么是暗场掩模板？
问答题 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
问答题 描述化学机械平坦化工艺。
