多项选择题
P型半导体MIS结构中发生少子反型时,表面的导电类型与体材料的类型()。在如图所示MIS结构的C-V特性图中,代表去强反型的()。
A. 相同 B. 不同 C. 无关 D. AB段 E. CD段 F. DE段 G. EF和GH段
单项选择题 导带底的电子是()。
问答题 请选出正确选项填入括号内 在室温下,半导体Si中掺入浓度为1014cm-3的磷杂质后,半导体中多数载流子是(),多子浓度为(),费米能级的位置();一段时间后,再一次向半导体中掺入浓度为1.1×1015cm-3的硼杂质,半导体中多数载流子是(),多子浓度为(),费米能级的位置();如果,此时温度从室温升高至K550,则杂质半导体费米能级的位置()。(已知:室温下,ni=1010cm-3;K550时,ni=1017cm-3)
多项选择题 电离后向半导体提供空穴的杂质是(),电离后向半导体提供电子的杂质是()。