多项选择题 回态源扩散的杂质源有（）

多项选择题 在离子注入完成后，检验到硅片表面有颗粒污染严重的情况，该情况引起的主要问题有（）

多项选择题 分结深是重要的结构参数，在检验时发现超浅结注入时，判断其造成原因有（）