问答题
简述偏移结构的制作过程。
制作过程为：1）光刻刻蚀栅极，保留栅极上面的光刻胶；2）利用带着光刻胶的栅极图形做掩膜对源区和漏......
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问答题 简述低温多晶硅薄膜晶体管组成的CMOS驱动电路的优点。
问答题 简述低温多晶硅技术的挑战。
问答题 简述低温多晶硅薄膜晶体管特点。
