单项选择题
介质隔离是以绝缘性能良好的电介质作为“隔离墙”来实现电路中各元器件间彼此电绝缘的一种隔离方法。常用的电介质是（）层。
A.多晶硅
B.氮化硅
C.二氧化硅
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单项选择题
二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。
A.预
B.再
C.选择 -
单项选择题
Ⅰ号液是（）过氧化氢清洗液.
A.碱性
B.酸性
C.中性 -
单项选择题
在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）
A、干氧
B、湿氧
C、水汽氧化
D、不能确定哪个使用的时间长
