单项选择题
刻蚀氮化硅薄膜时，可以用加热的磷酸进行刻蚀，此时的温度一般设置在（）
A.70～100℃
B.130～150℃
C.150～170℃
D.170～200℃
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单项选择题
一般情况下，刻蚀完成后需要进行的操作是（）
A.曝光
B.涂胶
C.去胶
D.显影 -
多项选择题
最常用的砷化橡的湿法刻蚀腐蚀液包括（）
A.硫酸
B.氢氟酸
C.双氧水
D.去离子水 -
多项选择题
回态源扩散的杂质源有（）
A.硼酸三甲酯
B.氮化硼
C.硼
D.磷微晶玻璃片
