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多项选择题
最常用的砷化橡的湿法刻蚀腐蚀液包括（）
A.硫酸
B.氢氟酸
C.双氧水
D.去离子水 -
多项选择题
回态源扩散的杂质源有（）
A.硼酸三甲酯
B.氮化硼
C.硼
D.磷微晶玻璃片 -
多项选择题
在离子注入完成后，检验到硅片表面有颗粒污染严重的情况，该情况引起的主要问题有（）
A.在局部阻挡掺杂
B.对器件结构造成连接或短路
C.对微小器件结构造成沟型损伤
D.整片硅片报废
