问答题
在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
一、将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中 二、在后续工艺中，保护下面的材料
问答题 例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
问答题 解释什么是暗场掩模板？
问答题 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
